laser-gas-arf

雷射氣體

ArF 193nm

準分子雷射散發的紫外光,擁有高光子能量以及非常高的尖峰功率。適用於半導體DUV(深紫外光微影)黃光製程。

多種鋼瓶尺寸供客戶選擇

  • 台灣在地化充填 交期迅速
  • 專業儀器分析原料及產品
  • 提供產品成分分析報告
產業應用 :

氣體與對應鋼瓶規格

ArF(193nm)
充填氣體 容器種類 容器容積 閥頭種類 充填量
F2/Ar/Ne Cylinder 49L DISS718 7,500L
Cylinder 49L DISS718 6,000L
Ar/Xe/Ne Cylinder 49L DISS718 7,500L
Cylinder 49L DISS718 6,000L

客戶服務

  • 專責運輸,7*24小時服務,安全迅速。
  • 緊急應變,快速支援。

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