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雷射氣體

Laser Annealing Gas

低溫多晶矽(LTPS)的生產過程中, 需要採用準分子雷射作為熱源,雷射經過透射系統後,會產生能量均勻的雷射束投射於非晶矽結構的玻璃基板上,當非晶矽結構的玻璃基板吸收準分子雷射的能量後,會轉變為多晶矽結構。整個低溫多晶矽結構的製程溫度都低於攝氏600度,適用於玻璃基板及柔性塑膠板。

  • 台灣在地化充填交期迅速
  • 分析儀器原料、產品全檢
  • 提供成品生產履歷報告
產業應用 :

氣體與對應鋼瓶規格

Laser Annealing Gas
充填氣體 容器容積 閥頭種類 充填量
HCl/Neon 16L DISS634 2,400L
0.5%H2/Neon 49L DISS718 7,500L

客戶服務

  • 專責運輸,7*24小時服務,安全迅速。
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